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2023-10-23点击量:842
10月14日新闻,光刻机大厂佳能(Canon)公司克日通过信息稿宣告,其曾经先导发卖基于“纳米印刷”(Nanoprinted lithography)本事的芯片分娩开发 FPA-1200NZ2C。佳能展现,该开发采用差异于庞杂光刻本事的计划,可能修筑5nm芯片。
正在半导体例程本事进入5nm节点之后,EUV光刻机曾经成为了不成或缺的枢纽开发。然而泛亚电竞,由于EUV光刻机造价慷慨,每台价钱超出1亿美元,并且EUV光刻机仅荷兰ASML一家发作可能供应,且产能有限,这使得芯片的分娩本钱大幅升高。
为此,从2017 年先导,半导体开发厂佳能就与存储芯片大厂铠侠,以及光罩等半导体零组件修筑商大日本印刷株式会社(DNP)协作,正在日本三重县四日市的铠侠工场内研发基于纳米压印(NIL) 的量产本事,可能不操纵EUV光刻机,就能使造程本事饱动到5nm。
佳能展现,这套分娩开发的就业道理和行业率领者 ASML 的光刻机差异,其并不欺骗光学图像投影的道理将集成电道的微观构造变动到硅晶圆上泛亚电竞,而是更相似于印刷本事,直接通过压印造成图案。
相较于目前已商用化的EUV光刻本事,铠侠正在2021年就曾展现,NIL 本事可大幅削减耗能泛亚电竞,并下降开发本钱。来源正在于NIL 本事的微影造程较为纯真,耗电量可压低至EUV 本事的10%,并闪开发投资下降至仅有EUV 开发的40%泛亚电竞。目前,EUV光刻机唯有荷兰ASML一家可能分娩供应,其不仅价钱高,并且需求很多检测开发的配合。
不表生产设备,固然NIL 本事有很多的便宜,但现阶段正在导入量产上仍有不少题目有待处理,个中征求更容易因气氛中的微幼尘土的影响而造成瑕疵。
对铠侠来说,NAND 零组件由于采用3D 立体堆叠构造,更容易符合NIL本事造程。铠侠当时就展现,如今已处理NIL 的根基本事题目泛亚电竞,正正在实行量产本事的饱动就业,期望能较其他逐鹿敌手率先引入到NAND 分娩当中。而一朝铠侠能胜利率先引入NIL 本事并实行量产,希望补偿正在开发投资竞赛中的倒霉现象,又能合适削减碳排放的需求。
依照DNP 的说法,NIL 量产本事电道微缩水准可达5nm节点,而DNP 从2021 年春天先导,就曾经正在依照开发的规格值实行内部的模仿仿真当中。而对付如此的本事前进,DNP 也揭露生产设备,从半导体修筑商对NIL 量产本事讯问度的加添,显示不少厂商对NIL 本事寄予厚望。
然而,铠侠正在对NIL本事实行测试之后,遭到了潜正在客户提出的投诉泛亚电竞,以为产物缺陷率较高,结果并未现实行使。
动作枢纽的开发供应商,佳能正在促使NIL本事量产NAND的同时,也极力于将NIL 量产本事普及的行使于修筑DRAM 及PC 用的CPU 等逻辑芯片的开发上,以正在异日供应多的半导体修筑商,也期望能行使于手机行使途理器等最优秀造程上。
此次佳能宣布的这套开发可能行使于最幼14平方毫米的硅晶圆,从而可能分娩相当于5nm工艺的芯片。绕过EUV工夫佳能起先出卖5泛亚电竞nm芯片坐褥修建
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